Qualifizierung von hochreinen Gasen mittels epitaktischer Abscheidung von Silizium-Schichten

Kurzbeschreibung

© Foto Fraunhofer EMFT

ASM-Reaktor

In langjähriger Zusammenarbeit (seit 2003) mit der Firma Evonik Degussa wird an der Fraunhofer EMFT in München die Qualitätskontrolle von hochreinen Prozessgasen wie Monosilan oder Dichlorsilan für die Halbleiterfertigung durchgeführt.

Dazu werden hoch-intrinsische Schichten aus den zu untersuchenden Gasen in dem an der EMFT im CMOS-Reinraum installierten Reaktor der Firma ASM (Typ E 2000, der auch vielerorts in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird), epitaktisch gewachsen. Als Substrat werden kommerziell erhältliche Silizium-Wafer verwendet. Der Reaktor ist dabei vor der jeweiligen Schichtabscheidung auf Dotierstofffreiheit durch entsprechende Herstellung und Vermessung von Referenzschichten überprüft. Der spezifische elektrische Widerstand der Schichten wird tiefenabhängig mittels SRP (spreading resistance probe) vermessen und gibt ein Maß für im Gas vorhandene Verunreinigungen an. Dabei werden die für die oben genannten Substanzen typischen Werte für den spezifischen elektrischen Schicht-Widerstand erreicht.

Partner

Evonik Industries